电子设计自动化（Electronic Design Automation，EDA）是芯片设计的基石产业，被誉为“芯片之母”。 3月31日至4月2日，由IEEE与ACM联合主办，EDAA承办的电子设计自动化领域全球著名学术会议——欧洲设计自动化与测试会议（Design, Automation and Test in Europe, DATE 2025）在法国里昂召开。我院闫爱斌教授应邀参会并做报告。

闫爱斌教授所做报告的题目为“NVSRLO: A FeFET-Based Non-Volatile and SEU-Recoverable Latch Design with Optimized Overhead”。在物联网应用场景中，诸多设备依赖能量收集维持工作，因此业界对能够在断电时有效保存数据的非易失性存储器（NVM）有着迫切的需求。铁电存储器（FeFET）凭借其独特的电阻状态特性能够实现数据的非易失存储功能，即便遭遇断电情况，存储于其中的信息依然能够得以保存，并且在电源重新恢复供应时，系统能够自动将数据恢复至正确状态。该设计引入了反馈环路以及C单元，有效阻断关键节点的软错误传播路径，并对软错误进行及时恢复。通过创新的电路设计，在非易失性、抗辐射能力和开销优化之间取得了平衡，为低功耗高可靠性电子系统提供了一种有效的解决方案。

本次会议中，闫爱斌教授代表合肥工业大学微电子学院集成电路容错设计与测试科研团队，与与会专家学者，如美国德州大学D. Pan教授（IEEE Fellow）、斯坦福大学Mitra教授（IEEE Fellow）、杜克大学Krish教授（IEEE Fellow）、EPFL的D. Atienza教授（IEEE Fellow）、Synopsys的Yervant博士（IEEE Fellow）等，展开了深入交流，收获了诸多极具价值的建议与意见，为深度加强国际交流与合作、切实推动我院学科建设以及人才培养等工作起到了良好的铺垫作用。

（李坤 文/图  刘梅 审核）